大豆初生根凯氏带对铜离子的通透性

？采用在根内生成有色铜沉淀的方法研究大豆(Glycinemax)初生根凯氏带对铜离子的通透性。用真空泵抽取浓度为200μmol·L–1的CuSO4溶液进入根中,然后在重力作用下从根基部灌注400μmol·L–1的K4[Fe(CN)6]溶液,两种物质在根内相遇即可产生棕色的Cu2[Fe(CN)6]沉淀,根据沉淀的位置来确定铜离子所经过的途径。结果表明:Cu2+可以穿过内皮层凯氏带,在木质部导管壁以及凯氏带至木质部之间的细胞壁处产生棕色沉淀,侧根发生的部位也产生了大量的沉淀;当抽取K4[Fe(CN)6]溶液后再灌注CuSO4溶液,发现Cu2+仍然可以穿过凯氏带,并在凯氏带外侧以及外皮层细胞的细胞壁处产生棕色沉淀。研究结果证明凯氏带并不是一个可以完全阻止离子进出的完美屏障。