黄瓜苗期低温弱光下耐低温性主基因-多基因联合遗传分析

选取耐低温弱光性不同的2份材料9507、9517及其配制的BC1、BC2、F1、F2等6个世代，进行低温弱光处理，每天光照处理7.5h，强度为30μmol/m2？s，约合2000lx，白天12℃，晚上8℃，共处理14d。运用主基因-多基因联合遗传模型方法研究耐低温性的遗传规律，并估算遗传参数。结果表明耐低温性的遗传受2对加性主基因+加性-显性多基因控制，F1平均值略低于中亲值，主基因的遗传率为62.871～79.310%，多基因的遗传率为3.448～7.792%，主基因+多基因的遗传率为74.026～82.759%，环境方差占表型方差的比率为17.241%～25.974%。即低温弱光条件下环境对耐低温性的遗传起很小作用，对于这个性状适于早代选择。