自控温室黄瓜茎蔓、叶片生长与有效积温关系的研究

研究了引进自控温室荷兰黄瓜叶片、茎蔓生长规律及与温室气候环境的关系。结果表明，与黄瓜茎蔓、叶片生长进程关系最密切的因子为12～25℃有效积温；叶片生长对温度反应呈非线性，13～19节位出叶所需12～25℃有效积温最少，平均每长1叶仅需10.6～10.9℃有效积温，比定植～5叶期少1/2以上。其他各节位每出1叶所需积温分别是定植～5叶为29.1℃，5～10叶为15.3℃，10～15叶为11.3℃，15～20叶为10.82℃，20～25叶为12.9℃，各生育期所需12～25℃有效积温较为稳定。在上海地区气候条件下建议采用变温管理方式以提高温度，通过气候环境的合理调控，实现黄瓜低成本生产和增产增收。