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中国生态农业学报 2009
控制水稻耐光氧化特性的QTL定位, PP. 339-342 Keywords: 水稻耐光氧化数量性状基因座(QTL)耐性指标敏感性指标 Abstract: 利用“Lemont”和“Dular”水稻杂交后代单粒传衍生的123个F12家系所组成的重组自交系(Recombinantinbredlines,RILs)群体及其含97个SSR标记的连锁图谱,以耐性指数(T)和敏感性指数(S)为测定指标,应用WinQTLcart2.5定位软件,采用复合区间作图法对2个性状进行定位分析。结果表明,在RIL群体中,2个性状呈连续分布,受微效多基因控制,并且各性状均存在一定数量的超亲遗传类型。2个性状共检测到11个QTL,各QTL的LOD值为2.02~5.07,贡献率为6%~23%。其中在第1、2、3、6、8染色体上检测到控制耐性指标的7个QTLs,贡献率为6%~19%;在第1、3、5、8染色体上检测到控制敏感性指标的4个QTLs,贡献率分别为19%、23%、6%和7%;分别在第3、8染色体的相同区间内(RM85~RM468和RM408~RM250)检测到2个性状的QTLs,这很好地解释了2性状之间存在着极显著负相关性即存在一因多效现象(Pleiotrophiceffect)。
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