黄瓜幼苗干物质积累、膨压及光合速率对铵态氮和硝态氮的响应

采用溶液培养方法，研究了氮素形态及水平对黄瓜干物质积累、膨压及光合速率的影响。结果表明，同一氮素水平时，NO3--N处理黄瓜干物质重量、叶片面积、叶片含水量、水势、膨压等均高于NH4+-N处理。低水平NH4+-N(5mmol/L)对黄瓜光合速率影响不大，甚至高于同水平NO3--N处理的，叶片面积稍有减小；高水平NH4+-N不仅显著抑制黄瓜干物质的积累，叶片面积仅是同水平NO3--N处理的12.7%，最小光合速率（Pn）为CO21.6μmol/（m2·s），仅为同水平NO3--N处理的10%左右。NH4+-N处理引起黄瓜叶片面积的减小与叶片膨压降低相关性较大，相关系数为0.98；膨压与叶片水势直接相关，而渗透势对此影响不大。高水平NO3--N对黄瓜产生了渗透胁迫，抑制黄瓜生长，表现在渗透调节物质的大量积累。不同黄瓜品种对氮素形态及水平响应差异较大，所有处理中新泰密刺长势均好于吉尼罗。低水平的NH4+-N对黄瓜干物质的积累影响不大，高水平则明显抑制其生长。说明高浓度铵态氮对植物产生了毒害，而高浓度的硝态氮则是渗透胁迫。