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ISSN: 2333-9721
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园艺学报  2004 

霍山石斛叶片光合速率和叶绿素荧光参数的日变化

, PP. 778-783

Keywords: 石斛,光合速率,叶绿素荧光参数,光抑制

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Abstract:

以霍山石斛(dendrobiumhuoshanense)为材料,研究其叶片的光合速率和叶绿素荧光参数的日变化。结果表明:栽培林下,霍山石斛光合速率较低,光合速率日变化与光强日变化显著正相关,林下石斛生长速度慢与生长环境光强低有关,林下光强不是石斛生长的最适光强。自然光下,石斛光合速率日变化呈v型,中午12:00光合速率最低,9:00~17:00之间光合速率为负值,只有早晚光强较低时有光合积累。叶绿素荧光参数日变化表明,自然光下,上午8:00光强超过800μmol·m-2·s-1,石斛叶片发生严重光抑制,出现在光合速率为负值之前,表明石斛不适宜在800μmol·m-2·s-1以上的强光下生长。室内光强处理试验表明在500μmol·m-2·s-1光强时,石斛叶片etr上升快,光合电子传递速率增加,npq增加,能及时有效利用光能并耗散过剩的光能,石斛有较好的光响应能力。

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