二硫化钼粉晶表面氧化机理研究

人们都采用Ａｒ＾＋刻蚀法轰击样品表面以表征其元素的深度分布和价态。这种分析方法的缺点是容易导致大多数化合物被还原而使表面层的真空组成受到破坏。因此，利用具有非破坏性特点的Ｘ射线光电子谱的角度分辨技术，对ＭｏＳ２粉晶表面几个分子层内的原子浓度分布作了深度剖析和元素氧化状态的表征，以考察其氧化反应机理。