氧化硅/氧化铁复合磨粒用于硬盘基片的抛光研究

本文以HNO3、NaOH、Fe(NO3)3和SiO2浆料为原料，采用沉淀法制备了1种SiO2/Fe2O3复合磨粒,通过X射线衍射仪(XRD)、飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)和扫描电子显微镜(SEM)对其结构进行表征，结果表明Fe2O3包覆到SiO2的表面，复合粒子具有很好的分散性。用UNIPOL-1502抛光机研究了所制备复合磨粒在镍磷敷镀的硬盘基片中的抛光性能，抛光后硬盘基片的表面粗糙度Ra由抛光前的8.87nm降至3.73nm；抛光后表面形貌的显微镜观测结果表明新制备的复合磨粒表现出较好的抛光性能。