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ISSN: 2333-9721
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二茂铁衍生物清除羟自由基的构效关系

, PP. 878-881

Keywords: 二茂铁衍生物,羟自由基,化学发光,循环伏安,构效关系

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Abstract:

采用化学发光法检测并比较了10种二茂铁衍生物清除羟自由基(·OH)活性,用循环伏安法研究了其电化学性质,进而探讨了取代基结构与清除·OH活性间的关系。结果表明,取代基共轭效应、诱导效应和体积都对衍生物清除·OH活性有明显影响。含共轭或吸电子取代基二茂铁衍生物,半波电位(E1/2)较高,清除·OH活性较弱;而含给电子取代基的二茂铁衍生物,E1/2较低,清除·OH活性较强。

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