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ISSN: 2333-9721
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倒相法制备PVDF-HFP基复合微孔聚合物电解质

DOI: 10.11918/j.issn.0367-6234.2012.07.012, PP. 64-67

Keywords: 聚合物电解质,纳米SiO2,倒相法,离子电导率,聚偏氟乙烯-六氟丙烯共聚物

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Abstract:

为改善纳米粒子在聚合物电解质中的分散效果,采用倒相制膜法,以纳米SiO2为填料,以OP-10为分散剂,制备复合微孔聚偏氟乙烯-六氟丙烯基电解质PVDF-HFP-SiO2(OP-10).用SEM、XRD、交流阻抗法等测试手段对电解质的微观形貌、内部结构和电化学相关性能等进行表征,结果表明:SiO2的加入降低了聚合物电解质膜的结晶度,增强了电解质的拉伸强度,提高了PVDF-HFP-SiO2(OP-10)聚合物电解质的电导率,在20℃时,可达到490×10-3S·cm-1,电化学稳定窗口为53V,电解质的离子迁移数为083.分散剂OP-10的加入改善了纳米SiO2与基质的界面相容性,改善了SiO2在基质中的分散度.

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