近晶型聚硅氧烷侧链液晶的合成与表征

以烯丙基溴、对羟基苯甲酸、对氰基苯酚为主要原料合成了液晶基元对-烯丙氧基苯甲酸对 羟基苯氰酯，通过硅氢化加成反应将其接枝到聚甲基氢硅氧烷主链上，合成了一种新型的聚硅氧烷侧链液晶。通过傅里叶变换红外光谱仪（FT-IR）、氢核磁共振仪（1H-NMR）、差示扫描量热仪（DSC）、热台偏光显微镜（POM）和X 射线衍射仪（XRD）对产物进行结构表征和液晶行为分析。硅氢加成反应近于完全，证实了液晶基元和液晶聚合物液晶性的存在；液晶聚合物的介晶区间为101.45 °C，大于液晶基元的介晶区间（78.3 °C），且在升