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力学与实践 2008
儿童倒走足底压力的分布特征研究DOI: 10.6052/1000-0992-2008-122, PP. 56-59 Abstract: 为探讨倒走锻炼相对于正常向前行走在足底压力分布方面的特征，对12名健康男性小学生正、倒走足底压力分布进行采集.然后对足底10个区的最大压力和冲量进行分析.结果表明，儿童正、倒走足底压力分布差异明显.与正走相比，倒走时足弓、第4,5趾骨区的压力均变为较高压力区域，而大拇指、第1,2趾骨区变为较低压力区域.该结果提示，倒走足底压力分布特征可能是倒走所具有的锻炼、康复特殊效果主要原因之一.
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