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ISSN: 2333-9721
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科学通报  2005 

三氟甲烷抑制CH4/O2低压预混平面火焰的实验研究

, PP. 1789-1793

Keywords: 三氟甲烷,火焰抑制,分子束质谱,同步辐射光电离

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Abstract:

利用同步辐射分子束质谱对三氟甲烷抑制下的CH4/O2低压预混平面火焰的燃烧生成组分进行了实验测量,通过选择性探测燃烧自由基与反应中间体,初步研究了三氟甲烷(CF3H)的化学灭火动力学.结果表明,同步辐射分子束质谱方法能够广泛探测到灭火剂作用下的燃烧生成组分,尤其是反应中间体与自由基.三氟甲烷灭火剂(CF3H)在火焰预热区内完全参与反应,生成了CF3和CF2等含氟中间体,并且CF3将作为主要组分继续参与火焰主反应区内的抑制过程.由三氟甲烷(CF3H)生成的主产物氟化氢(HF),H-F键能远大于H-Br键能,因此十分稳定,不会参与类似的溴化氢(HBr)对燃烧自由基OH和H的清除反应,这是造成三氟甲烷(CF3H)灭火性能低于传统含溴哈龙灭火剂的主要原因.

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