非接触化学机械抛光的材料去除模型

探讨了化学机械抛光中抛光垫和晶片处于非接触状态下的材料去除机理,认为磨粒对材料的去除贡献主要是通过犁削作用而实现的.并在此基础上发展了一个用来预测抛光垫和晶片处于非接触状态下材料去除率(MRR)的新模型.通过与实验数据的比较,该模型对非接触状态下MRR的变化有较好的预测效果.模型的数值模拟表明晶片的相对速度u与流体黏度h是影响非接触状态下MRR的最主要的两个因素;晶片所受载荷wz的变化对MRR也有影响,但影响的效果和相对速度与流体黏度相比不明显;当磨粒半径r≤50nm时,可以忽略磨粒尺寸的变化对MRR的影响.