Co-Ni合金的电沉积及其微观结构的PoSAP分析

脉动直流复合电沉积(Pulsedco-elec-trodeposition-PCD)是制备纳米晶合金材料的新方法.本文用位置敏感原子探针(Posi-tionSensitiveAtomProbe-PoSAP),透射电子显微镜(TEM)和X-ray能量分散谱(EDS)研究了PCD法制备的纳米晶Co-Ni磁性合金的微观结构和Co含量与电解液化学成分的关系.根据Co-Ni合金相图,室温下Ni含量小于27％为hcp结构的εCo固溶体,Ni含量大于36％为fcc结构的αCo,Ni含量在27％～36％之间时为εCo+αCo两相结构.TEMSEM和X-ray对不同沉积参数样品的观测表明,在电流密度为200A/m2,电解液温度为30℃,脉动直流参数ton=toff=0.5S的条件下可获得平均晶粒尺寸为70nm的沉积层(ton为导通时间,toff为截止时间).制备εCo,εCo+αCo和αCo3种典型Co-Ni合金的电解液的化学成分见表1.纯度99.9％,厚0.2mm的铜板为阴极,纯度99.9％的钴板和纯度