反应溅射Al_2O_3涂层及其高温氧化与热腐蚀性能

本论文研制了在Ar+O_2混合气氛中Al靶和Al-Y靶的直流磁控反应溅射中氧分压、总气压、溅射电压、电流、功率以及薄膜沉积速率等参数间的相互关系,用电子探针、X射线光电子能谱和俄歇电子能谱手段分析了溅射膜的成分和组元的化学态,用光学显微镜、扫描电镜、透射电镜观察了膜的微观结构,用电子衍射和X射线衍射等方法分析了