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ISSN: 2333-9721
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卤离子溶液中(NH2)2CS对Cu阳极溶解的缓蚀作用
, PP. 211-214
Keywords: 2CS,缓蚀,Cu,卤离子,扫描速率
Abstract:
运用恒电位稳态极化和暂态极化技术研究了(NH2)2CS在中性NaF、NaCl、NaBr及KI溶液中对金属Cu阳极溶解的缓蚀作用.通过比较Cu在卤离子溶液与含(NH2)2CS卤离子溶液中的电化学行为,解释了(NH2)2CS的缓蚀机制;并研究了扫描速率对形成CuX膜的峰电位和峰电流的影响,探讨了Cu的阳极溶解机理.
References
[1] | 1〕BockrisJO’M ,ConwayBE ,YeagerE ,etal.ComprehensiveTreatiseofElectrochemistry.Vol.4,NewYork:PlenumPress,1981.97
|
[2] | 〔2〕PearlsteinAJ ,LeeHP ,NobeK .J.Electrochem.Soc.,1985,132(9):2159
|
[3] | 〔3〕HudsonJL ,BassettMR ,Rev.Chem.Eng,1991,7:109
|
[4] | 〔4〕PetelNK .J.Inst.Chem.(India)1976,48(5):248
|
[5] | 〔5〕PatelAB ,PatelNK ,VoraJC .Labdev,PartA ,1974,12-A(3):134
|
[6] | 〔6〕GoleDS ,BasuS ,RoyDL .Trans.Indian.Inst.Met.1979,32(4):344
|
[7] | 〔7〕BockrisJO’M ,HabibMA ,CarbajalJL .J .Electrochem.Soc.,1984,131(12):3032
|
[8] | 〔8〕PapapanayiotouD ,NuzzoRN ,AlkireRC .J .Electrochem.Soc.,1998(10):3366
|
[9] | 〔9〕PaezMA ,ZagalJH ,BustosO ,etal.Electrochem.Soc.Meet ingAbtracts,1997,MA 97-2:388
|
[10] | 〔10〕StankovicZD ,VukovicM .ElectrochimicaActa,1996,41(16):2529
|
[11] | 〔11〕张青莲,申泮文主编,无机化学丛书.北京:科学出版社,1998.476
|
[12] | 〔12〕〔英〕南安普顿电化学小组编.柳厚田,徐品弟译,周伟舫校.电化学中的仪器和方法.上海:复旦大学出版社,1992.182
|
[13] | 〔13〕田昭武.电化学研究方法.北京:科学出版社,1984.239
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