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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用：99美元
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铝箔在HCl中交流电腐蚀的起始成孔效应
, PP. 61-65
Abstract:
研究了在5.5mol/LHCl高纯铝箔交流电腐蚀的起始成孔对后续蚀孔发展以及表面扩大率影响。50Hz交流电直接腐蚀时,在小于0.2A/cm2时产生大的圆孔,大于0.2A/cm2时产生覆盖有厚膜的小孔,并导致小孔堵塞。用交流预腐蚀发孔,得到覆盖有透明钝化型薄膜的小孔,孔径较大,并为后续的交流电腐蚀继承和延续。起始蚀孔的几何尺寸和表面膜形态决定后续蚀孔的尺寸和表面膜。
| [1] | 1沈行素,阎康平．腐蚀与防护,1985,4:22ThompsonGE,WoodGC．Coros．Sci．,1978,18:7213DyerCR,AlwitRS．J．Electrochem．Soc．,1981,128(2):3004松木健三．金属表面技术(日),1987,38(6):2485QUANGK．Vu．J．Electrochem．Soc．,1983,130(6):12486阎康平,沈行素．应用化学,1987,4(4):12,4(1):57
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Full-Text
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