短小芽孢杆菌E601传代和中子辐照后的菌落形态变化

为研究短小芽孢杆菌E601不同形态菌落分布情况及中子辐照对其影响,对短小芽孢杆菌不同形态菌落进行了反复传代,并采用CFBR-Ⅱ快中子脉冲反应堆分别对不透明菌落进行了低、中、高剂量的一次中子辐照和二次中子辐照,发现(1)在正常传代条件下,E601短小芽孢杆菌有半透明型和不透明型菌落存在;(2)经反复传代,半透明菌落可产生各占一半的半透明型与不透明型两种菌落形态,而不透明菌落基本不产生半透明菌落;(3)中子辐照对菌落分布影响较大,随着一次中子辐照剂量的升高,半透明菌落所占的比例逐渐增加;当中子二次辐照剂量最高时,半透明菌落所占比例最大。因此认为E601短小芽孢杆菌之所以能产生两种不同形态菌落,主要是由半透明菌落的不稳定性决定的。在中子辐照中,半透明菌落型菌株耐辐照能力高于不透明型菌落菌株。