强光下H2S对石斛DNA甲基化及抗氧化系统的影响

本试验以铁皮石斛为材料,研究强光胁迫下外源硫化氢对铁皮石斛的抗氧化系统及基因组DNA的甲基化水平和模式变化的影响。结果表明:200μmol·L-1的硫氢化钠(NaHS,H2S的供体)可显著促进SOD、CAT和POD的酶活性、降低MDA含量,缓解了强光胁迫对铁皮石斛造成的氧化损伤。而高浓度NaHS(600μmol·L-1)处理则加重了石斛的氧化损伤。甲基化敏感扩增多态性(Methylationsensitiveamplifiedpolymorphism,MSAP)分析表明,强光胁迫下0、200和600μmol·L-1NaHS处理(T1、T3、T5)的石斛DNA甲基化比率分别为29.6%、33%和28.9%,均低于对照(正常光照,35.4%)。强光下T1与对照CK相比、T3和T5与T1相比,石斛基因组DNA的去甲基化和甲基化变化的位点比例分别为6.4%、7.7%、6.7%和9.0%、8.1%、9.2%。通过对差异条带的回收测序和Blast比对,发现其中有与光合作用有关的合成酶、与抗逆相关的转录因子等同源的片段。