|
|
自然科学进展 2008
核黄素光敏损伤端粒DNA单链及端粒酶RNA亚基机理研究Keywords: 端粒,端粒酶,核黄素(Rb),ESR自旋消减法,激发三重态,核黄素,光敏损伤,端粒酶,单链,亚基,细胞凋亡,过程,反转录,长度,癌细胞,阻断,模版,合成,切割法,光敏剂,内源性,光照,结果,机理,寡聚核苷酸 Abstract: 采用电子自旋共振（ESR）消减法及光切割法对核黄素激发三重态单电子氧化寡聚核苷酸的机理进行了探讨．结果表明：UVA光照下，作为内源性光敏剂的核黄素能够高效切割端粒DNA单链及端粒酶RNA亚基用于合成端粒DNA的模版区，从根本上阻断端粒酶维持癌细胞端粒DNA长度的反转录过程，促使癌细胞凋亡．
|
