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ISSN: 2333-9721
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科学通报  2003 

单个DNA分子光敏断裂过程的观察

Keywords: DNA分子,光敏断裂过程,YOYO-1染料染色,原子力显微镜,荧光显微镜,衬底修饰,分子梳技术,弹性回缩

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Abstract:

利用荧光显微镜和冷却CCD记录单个拉直的λDNA分子在光照下逐渐断裂的动态过程。λDNA分子经高效的YOYO-1染料染色后,用分子梳技术拉直,并使DNA链的若干局部点固定在APS修饰的玻片上。在蓝光的照射下,观察λDNA的断裂和断裂后的弹性回缩过程。结果表明,DNA构象的变化以及水分子的作用,有可能使DNA在光照的作用下更加容易断裂。此技术将在研究DNA弹性、DNA与染料相互作用以及肿瘤治疗中起一定的作用。

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