Si3N4/BN纳米复合粉体的制备

采用化学溶液法，溶解分散H3BO3，CO(NH2）2及α-Si3N4微粉制成悬浮液，干燥后以氨还原氮化法制备出纳米氮化硼包覆微米氮化硅的Si3N4/BN纳米复合粉体．利用x射线衍射(xRD)和透射电子显微镜(TEM)对复合粉体的形成过程及形貌结构研究发现：当反应温度为1100℃时，包覆层中除在临近α-Si3N4颗粒表面有少量涡流状氮化硼(t-BN)生成外，其主要组成部分为非晶态BN。以上复合粉体经1450℃氮气氛下处理后，非晶态氮化硼与涡流状氮化硼转化为h-BN。所制复合粉体经1800℃热压烧结获得加工性能良好的复相陶瓷。