INFLUENCES OF Y~+-IMPLANTATION ON GROWTH STRESS OF OXIDE SCALE FORMED ON ALUMINIZED Ni-BASE ALLOY
离子注入Y^＋对镍基合金渗铝层1100℃氧化膜生长应力的影响

利用氧化膜应力原位测量装置研究了离子注入１×１０＾１７，１×１０＾１６Ｙ＾＋／ｃｍ＾２对Ｎｉ－１５Ｃｒ－６Ａｌ合金渗铝层氧化膜恒温生长应力的影响。结果表明，离子注入上述二种剂量的Ｙ＾＋对合金渗铝层在１１００℃的氧化动力学没有显著影响，但降低了氧化膜的恒温生长应力。通过对实验结果进行分析，认为离子注入Ｙ＾＋降低Ａｌ２Ｏ３膜的生长应力，增强氧化膜的粘附性的原因在于改变了氧化膜的生长机制和促进了膜的塑性