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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
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InAsSb SINGLE CRYSTALS WITH CUTOFF WAVELENGTH LONGER THAN 10μm GROWN BY MELT EPITAXY
用熔体外延法生长的截止波长10μm以上的InAsSb单晶

Keywords: long wavelength IR material,InAsSb,single crystal,melt epitaxy
截止波长
,液相外延,电子迁移率,衬底,生长工艺,外延层,载流子浓度,体外,新生,常规

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Abstract:

用熔体外延法,在液相外延系统中,在InAs衬底上成功地生长出了截止波长为11μm的InAsSb单晶.虽然使用液相外延设备,但熔体外延具有不同于液相外延等常规晶体生长方法的创新生长工艺.红外傅里叶光谱测量证明InAsSb材料的截止波长超过10μm.X射线衍射光谱揭示InAsSb外延层具有相当完美的晶体取向结构,且与InAs衬底取向一致,均为(100)方向.霍尔测量结果给出295K下,InAsSb的电子迁移率为4.75×104cm2/Vs,截流子浓度为3.61×1016cm-3;77K下电子迁移率为2.86×104cm2/Vs,载流子浓度为1.50×1016cm-3.数据显示这种材料具有研制新型探测器的良好前景.

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