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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
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Photocatalytic degradation properties of amorphous TiO2-W thin film
非晶态TiO2W薄膜的光催化性能研究

Keywords: magnetron sputtering,TiO2-W thin films,photocatalysis,film thickness
磁控溅射
,TiO2-W薄膜,光催化,薄膜厚度

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Abstract:

采用磁控溅射技术在玻璃基片上制备了W掺杂的非晶态TiO2薄膜,用XRD、XPS和椭圆偏光测厚仪等对薄膜进行了微观分析.结果表明,TiO2-W薄膜为非晶态结构.Ti以 4价存在;W以0价和 6价形式存在,并且6价和0价W的原子浓度比为6.4:1;薄膜中Ti和W的原子浓度比为2.6:1.对5 mg·L-1的亚甲基蓝溶液光催化脱色试验表明,随着膜厚的增加,光催化降解率递增,当膜厚达到141 nm时,所制备的TiO2-W薄膜对亚甲基蓝的脱色率在2 h达到90%;当膜厚大于141 nm时,光催化降解率不再增加.

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