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ISSN: 2333-9721
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汽相外延InP

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Abstract:

<正> 由于InP具有高的峰谷比,高的电子漂移速度和快的谷间散射.使其成为微波和光电器件方面有前途的新材料. 本工作企图采用 In/PCl_3/H_2体系,汽相生长满足器件要求的 InP外延材料.实验方法如下: 采用与GaAs汽相外延相似的装置:主路接PCl_3料瓶,旁路接掺杂“S”料瓶和供汽

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