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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用：99美元
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The influence of doposition conditions on the structrure of ZnTe/ZnTe:Cu thin films and the properties of CdTe cells
沉积条件对ZnTe/ZnTe:Cu薄膜结构及CdTe电池性能的影响
Zhong Zheng-Xiang, Zheng Jia-Gui, Zhong Yong-Qiang, Yang Fan, Feng Liang-Huan, Cai Wei, Cai Ya-Ping, Zhang Jing-Quan, Li Bing, Lei Zhi, Li Wei, Wu Li-Li,
仲政祥, 郑家贵, 钟永强, 杨帆, 冯良桓, 蔡伟, 蔡亚平, 张静全, 黎兵, 雷智, 李卫, 武莉莉
Keywords: polycrystalline ZnTe film,deposition temperature,structure of films,device performance
ZnTe多晶薄膜,沉积温度,薄膜结构,器件性能
Abstract:
用共蒸发法沉积了ZnTe/ZnTe:Cu复合多晶薄膜，通过XRD，XPS，C-V，I-V等研究了沉积温度对薄膜结构、Cu浓度分布及电池性能的影响.结果表明，沉积温度对薄膜的结构影响不明显,薄膜呈立方相，经185 ℃退火后出现了六方相.对薄膜的剖析发现，Cu浓度分布呈现先上升到一极大值而后快速下降的趋势, 100 ℃沉积的ZnTe/ZnTe:Cu薄膜，ZnTe层起到了阻止Cu扩散作用，用这种薄膜制作的太阳电池XD较大 Full-Text
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