STUDY ON MICROSTRUCTURAL CHARACTERIZATION AND FERROMAGNETIC RESONANCE IN SPUTTERED Co/V MULTILAYERS
溅射制备的Co/V多层膜微观结构特征与铁磁共振研究

研究了用射频磁控溅射方法制备的［Co(1.5nm)/V(dV)］20(0.5nm≤dV≤4nm)多层膜的结构和磁性.用X射线衍射、透射电子显微镜、高分辨率透射电子显微镜等手段对其结构的分析，表明它们层状周期结构良好，沿膜的生长方向具有fcc Co(111)和bcc V(110)织构，且是由小的柱状晶粒构成的多晶薄膜.界面一定程度的合金化，使其成为成分调制周期结构，也是它们的一个结构特征.由其铁磁共振谱计算得到较小的g因子和4πMe