在石墨薄膜中所观察到的一个平行位错列的分析

在应用电子显微镜透射技术直接观察晶体薄膜中的位错时,为了进一步了解所观察到的位错线的性质,应当在同一视场尽可能地改变成象条件进行观察,以便充分利用位错的衍衬效应,提供更多的有助于进行分析的素材。 一般的明场象,往往是在若干衍射光束同时参与成象的条件下得到的。因此,应用现有的只考虑一个强衍射束的衍衬理论对这种象进行分析时,有一定的困难。克服困难的途径有两种:(1)把样品倾斜,使其一衍射斑点的强度大大超过其它斑点的强度而在成