STUDYING THE LAWS OF DEPENDENCE OF REFRACTIVE INDICES OF AMORPHOUS As2S3 ON HYDROSTATIC PRESSURE USING HIGH-PRESSURE MICROSPECTROSCOPIC SYSTEM
用高压显微光谱系统研究非晶态As2S3的光学折射率随流体静压力变化的规律

用金刚石对顶砧高压显微光谱系统在高达66kbar的流体静压力和光谱波段为400—900nm范围内,用透射光干涉谱法测量了非晶态As2S3(a-As2S3)的光学折射率n与压力p以及波长λ的变化关系。a-As2S3的折射率对压力极为敏感,在波长为650nm,压力从1bar变到66kbar时,它增加35％。在计算机上用最小二乘法对实验点进行拟合的结果得到:对某一波长λ来说,遵循n(P)=n(0)+Ap+Bp2的非线性关系。其中n(p)和n(0)是p压和常压下的折射率,A和B是与波长有关的系数,文中给出了A和B的具体参数。这个关系与Weinstein和Galkiewicz等人公布的n(p)和p之间遵循线性关系不同。