|
高分子学报 2009
UV-CURING OF HYPERBRANCHED POLYSILAZANES-THIOL COMPOUND SYSTEM
|
Abstract:
采用等温差示光量热扫描技术(DPC)研究了超支化烯丙基聚硅氮烷-巯基化合物体系的紫外光固化.对比了超支化聚合物-巯基化合物体系、二官能烯丙基硅氮烷-巯基化合物体系和超支化自聚体系的紫外光固化特性, 结果表明超支化-巯基化合物体系可在引发剂浓度低(0 1 wt%)、辐照强度低(5 mW/cm2)的情况下迅速发生光固化反应; 与超支化自聚反应相比固化速率高、双键转化率高; 而与低官能-巯基化合物体系相比, 由于超支化分子结构的独特性, 导致固化速率快, 双键转化率偏低. 对引发剂浓度、辐照强度和反应温度对固化行为的影响表明, 在引发剂浓度不超过0 5 wt%和辐照强度不大于30 50 mW/cm2时, 反应速率分别与引发剂浓度和辐照强度的1/2次方成线性关系. 运用带扩散因子的自催化固化动力学模型研究了不同温度下的固化行为, 计算出特定条件下的光固化动力学参数, 表观总反应级数约为8 76, 表观活化能为13 97 kJ/mol.