真空波导磁场控制型ecr溅射法的实验研究

？微波电子回旋共振（delectroncyclotronresonance．ecr）等离子体溅射法是能在低温下制备高质量薄膜的最新镀膜技术．在该技术中，微波输入窗口易受金属粒子污染，导致微波在窗口反射，从而影响装置的正常工作。本文初步探讨了在ecr溅射装置中．采用真空波导与共振腔连成一体，在连接处配置磁轭（纯铁）．通过改变共振腔与波导连接处的磁场分布，能有效的避免微波窗口污染的技术途径，并较细致的研究了该装置的放电特性。