偏压对磁控溅射cr-n薄膜组织及性能影响

？采用磁控溅射离子镀制备cr？n薄膜，研究基体偏压对cr？n薄膜组织结构和性能的影响。分别用辉光放电光电子谱（gdoes）、场发射扫描电镜（fesem）和x射线衍射(xrd)分析薄膜成分和组织结构，显微硬度计测量薄膜硬度。结果表明，薄膜为非化学计量比的cr？n薄膜，n/cr原子比均小于0.25，薄膜主要以cr的衍射峰为主。在偏压达到？60　v？后薄膜显示了较高的硬度（＞25　gpa），其归因于离子轰击导致的薄膜的致密度的提高。偏压超过60　v后，致密度达到饱和，硬度增加不明显。