tio(2-x)纳米粒子薄膜型氧敏元件的性能

以钛酸丁酯和无水乙醇分别为前驱体和溶剂,添加适量稳定剂制成稳定溶胶,用浸涂法在al2o3基片上制备tio2薄膜,经在1000℃氢气氛下还原制得tio2-x薄膜.通过sem照片发现薄膜颗粒在几十纳米左右,颗粒分布均匀.由xrd分析,薄膜的x值在0～0.5之间.实验结果表明,tio2-x薄膜在800℃下具有良好的氧敏感性和响应特性,薄膜在n2条件下具有很好的电阻-温度特性