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ISSN: 2333-9721
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电化学沉积金属铜的分形枝晶生长控制与性能

, PP. 0-0

Keywords: 分形结构,枝状晶体,多孔铜,电沉积

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Abstract:

?以cuso4/sub>为前驱体,hcl为添加剂,采用电化学沉积方法,在室温条件下制得了μm级、面心立方结构分形铜的枝状晶体,研究了铜离子浓度、硫酸浓度、电流密度、沉积时间、氯离子浓度等实验参数对分形枝状铜晶体尺寸、结构的影响。结果表明:硫酸的浓度对铜沉积物结构无明显影响;随着cu2+/sup>浓度的不断增大,铜沉积物的分形效果越来越明显;增大电流密度(0.4~1.6a·cm-2/sup>),铜沉积物由致密向多分枝的开放型转变;延长沉积时间(大于等于5min),可获得含大量次级分枝铜的晶体;适当增加盐酸用量(0.05~0.20mol/l),铜沉积物枝晶尺寸显著减小。最后讨论了分形枝晶铜在碱性条件下氧化甲醇的电化学性能。

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