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强激光与粒子束 2011
hfo2/sio2双色膜在1064nm和532nm激光辐照下的损伤特性, PP. 0-0 Keywords: 双色膜,内保护层,基频光,倍频光,激光损伤 Abstract: ?采用电子束蒸发的方式,制备了有氧化硅内保护层和没有氧化硅内保护层的1064nm高透过、532nm高反射的hfo2/sio2双色膜,测量了它们的光学性能以及在基频和倍频激光辐照下的抗损伤性能。结果表明:氧化硅内保护层提高了双色膜在基频光辐照下的损伤阈值,对双色膜在倍频光辐照下的损伤阈值无明显影响。通过观察薄膜的损伤形貌,分析破斑的深度信息结合驻波场分布,对两类双色膜在基频光和倍频光下的损伤机制做了初步探讨。分析表明:氧化硅内保护层提高了膜基界面的抗损伤性能,从而提高了双色膜在基频光下的损伤阈值。
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