应用离子后处理技术提高薄膜激光损伤阈值

？利用电子束热蒸发方法在k9玻璃基底上沉积氧化锆薄膜，并对其中一些样品用低能o2+进行了后处理。采用表面热透镜技术测量薄膜样品表面弱吸收，采用显微镜观察样品离子后处理前后的显微缺陷密度。测试结果表明：经离子后处理样品表面的缺陷密度从18.6/mm2降低到6.2/mm2，且其激光损伤阈值从15.9j/cm2提高到23.1j/cm2，样品的平均吸收率从处理前的1.147×10-4降低到处理后的9.56×10-5。通过对处理前后样品的表面微缺陷密度、吸收率及损伤形貌等的分析发现：离子后处理可以降低薄膜的显微缺陷和亚显微缺陷，从而降低薄膜的平均吸收率，同时增强了薄膜与基底的结合力，提高了薄膜的激光损伤阈值。