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ISSN: 2333-9721
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材料工程  1998 

氮化钽薄膜的制备与结构研究

Keywords: 氮化钽,薄膜,硬度,显微组织

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Abstract:

利用磁控反应溅射技术制备了氮化钽薄膜,利用TEM、XRD技术研究了薄膜的微观结构.研究结果表明薄膜中多相共存;薄膜晶粒细小(16nm左右);同时还发现,在一定工作压力下,随着氮分压的提高,氮化物晶粒形成的取向改变,即平行于基体表面生长的晶面会有改变.一定工作压力下,制备的氮化钽薄膜硬度高达4000kg/mm2以上.本文探讨了氮化钽薄膜高硬度的原因,并且讨论了随氮分压的提高薄膜织构变化的原因.

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