OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用:99美元
|
|
|
氮化钽薄膜的制备与结构研究
Keywords: 氮化钽,薄膜,硬度,显微组织
Abstract:
利用磁控反应溅射技术制备了氮化钽薄膜,利用TEM、XRD技术研究了薄膜的微观结构.研究结果表明薄膜中多相共存;薄膜晶粒细小(16nm左右);同时还发现,在一定工作压力下,随着氮分压的提高,氮化物晶粒形成的取向改变,即平行于基体表面生长的晶面会有改变.一定工作压力下,制备的氮化钽薄膜硬度高达4000kg/mm2以上.本文探讨了氮化钽薄膜高硬度的原因,并且讨论了随氮分压的提高薄膜织构变化的原因.
References
[1] | Xin Sun,Elzbieta Kolawa et al.Thin Solid Films,1993,236:347~351
|
[2] | L.Riv and,S.A.Barnett and J.E.Greene.J.Vac.Sci.Thchnol,1991,A9(4):2180~2182
|
[3] | 李鹏兴,林行方主编.表面工程.上海交通大学出版社,1989
|
[4] | B.Jons son,S.Hongmark.Thin Solid Films,1984,114,257
|
[5] | 徐敏生,陈国平.真空科学与技术,1987,7(1):60~64
|
[6] | 国家自然科学基金委员会.金属材料科学.科学出版社,1995
|
[7] | 卢柯,刘学东,胡壮麒.材料研究学报,1994,8(5):385~390
|
[8] | 田民波等编著.薄膜科学与技术手册.机械工业出版社,19991
|
[9] | 韩顺昌.材料开发与应用,1998,13(1):36~40
|
Full-Text
|
|
Contact Us
service@oalib.com QQ:3279437679 
WhatsApp +8615387084133
|
|