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ISSN: 2333-9721
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固结磨料抛光LiB3O5晶体的抛光液优化

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Abstract:

LiB3O5(LBO)非线性光学晶体软、脆的特点增加了超精密加工的难度。采用固结磨料抛光技术对LBO晶体(110)面进行抛光,研究酸性、中性和碱性抛光液pH值调节剂及pH值对晶体抛光材料去除率、表面形貌和表面粗糙度的影响。结果表明酸性抛光液对LBO晶体表面的腐蚀作用太大,中性抛光液的腐蚀作用太小,不适合抛光LBO晶体;乙二胺配制pH值为11的无磨料碱性抛光液固结磨料抛光LBO晶体(110)面,获得高的晶体表面质量,表面粗糙度Sa为1.94nm,表面损伤小。

References

[1]  ?LI J, ZHU Y W, ZUO D W, et al. Optimization of polishing with Taguchi method for LBO crystal in CMP[J]. J Mater Sci Technol, 2009, 25(5): 703–707.

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