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ISSN: 2333-9721
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化学学报  1994 

利凡诺的吸附溶出伏安法研究

, PP. 111-115

Keywords: 汞电极,利凡诺,吸附溶出伏安法,电化学性质

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Abstract:

在NH~3-NH~4Cl底液中,利凡诺(RIL)在汞电极上有一线性扫描还原峰,E~P~C=-1.42V(vs.饱和Ag/AgCl电极).该峰具有明显的吸附性.当RIL浓度较小,扫描速度较快,搅拌富集时间较长时,电极反应完全为吸附态的RIL的还原所控制.吸附粒子为RIL中的二氨基乙氧基丫啶中性分子.测得RIL在汞电极上的饱和吸附量为4.0×10^-^1^0mol·cm^-^2,每个RIL分子所占电极面积为0.42nm^2,电子转移数n为2,不可逆吸附的转移系数α为0.71.探讨了RIL在汞电极上还原的机理.并建立了吸附溶出伏安法测定RIL的最佳条件,最低检测限为1.0×10^-^9mol·dm^-^3

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