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ISSN: 2333-9721
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化学学报  2002 

六氰合铁酸铜钴薄膜修饰铂电极的电化学、XRD及XPS研究

, PP. 704-710

Keywords: 铁酸盐,化学修饰电极,X射线衍射分析,X射线光电子谱法

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Abstract:

采用循环伏安法在铂电极上电聚合了六氰合铁酸铜钴薄膜,并用电化学、XRD和XPS对该薄膜进行了表征。研究表明此薄膜属于取代型的多核六氰合铁酸盐,由Cu~(2+),Co~(2+)和Fe~(2+)共同占据晶格格点。通过改变Cu~(2+),Co~(2+)和Fe~(3+)在沉积液中的比例可以改变聚合膜的性质。随沉积液中Cu~(2+)含量的增加,聚合膜中铜的含量相应增加而晶格常数则逐渐减小,但保持着面心立方的晶格对称性。当沉积液中Cu~(2+)Co~(2+)Fe~(3+)=112时,得到的聚合膜具有比较典型的性质,该薄膜修饰的铂电极在pH4~10之间均能保持着稳定的电化学响应。其对一价阳离子的选择性顺序为K~+>Li~+>Na~+>NH_4~+,与单组分的六氰铁酸酮和六氰合铁酸钴都存在着较大的差别。XPS实验表明氧化态薄膜中铁元素以Fe(III)存在,并且在X射线的照射下很快转化为Fe(II)。

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