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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用：99美元
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晶粒取向3%Si-Fe畴结构的应力效应——Ⅰ.张力对畴结构的影响
, PP. 49-154
Abstract:
本文用粉纹法仔细研究了晶粒取向3％Si-Fe中几种典型畴结构在张应力作用下的变化过程,阐明了不同类型畴结构变化的特点及规律,揭示了张应力使畴细化的机理,并导出了畴宽随张力变化的公式,从畴结构应力效应的角度,解释了损耗极小值对应的最佳倾角等重要的实验事实。
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Full-Text
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