择优取向对X射线应力测试的影响
, PP. 667-672
Keywords: 择优取向,薄膜,弹性性质,加权Hill模型,X射线应力测试
Abstract:
本文从择优取向材料的受力边界条件出发．提出了一种计算择优取向材料X射线弹。性质的近似模型─—加权Hill模型并用这一简化模型计算了一些模型材料的X射线应力测试曲线．为验证新模型，实测了电镀及电刷镀Cu膜的应力实验结果与用新模型计算结果符合得较好从而解释了等离子辅助化学气相沉积（PCVD）TiN膜应力测试曲线的低ψ角弯曲现象．指出这种弯曲是由PCVDTIN中存在的柱状晶定向排列引起当低ψ角弯曲而高ψ角具有线性区段时、可利用高角直线段的斜率计算残余应力
| [1] | 1 Hauk V M. Adv X-Ray Anal. 1983; 27: 101
|
| [2] | 2 Noyan I C,Cohen J B.Adv X-Ray Anal 1983;27:129
|
| [3] | 3 Perry ,A.J:Surf Coat Technol ,1990;4:231
|
| [4] | 4 Perry A J, Jagner M, Sproul W D, Rudnik P J. Surf Coat Technol 1990; 42: 49
|
| [5] | 5 Dolle H, Cohen J B. Met Trans , 1980; 11A: 159
|
| [6] | 6 Dolle H, Hank V. Z Metalkde , 1978; 69: 410
|
| [7] | 7 Brakman C M.J Appl Cryst, 1983; 16: 325
|
| [8] | 8 Sprauel J M, Francois M, Barral M. ICRS2, London and New York: Elesevier Applied Science 1989: 172
|
| [9] | 9 Krier J, Rupporsbery H, Berveiller M, Lipinski P. Textures Microsturct 1991; 14—18: 1147
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