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ISSN: 2333-9721
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氧浓度对MS法制备的ZnO:SbJ薄膜的光学性能影响

DOI: 10.11721/cqnuj20100319, PP. 77-80

Keywords: Sb掺杂ZnO,射频磁控溅射,透射率,光致发光,氧浓度

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Abstract:

"在玻璃衬底上以Zn-Sb合金靶为靶材,采用射频反应磁控溅射法制备出具有良好C轴取向的ZnOSb薄膜。用X射线衍射仪、分光光度计和荧光发光光度计等测试手段分析了Sb掺杂ZnO薄膜的晶体结构和光学性质。薄膜在N2气中550℃退火后的X射线衍射谱表明Sb掺杂ZnO薄膜主要沿ZnO的(002)方向生长,没有检测到其它杂质相的生成。退火前,薄膜的光学带隙随氧浓度的增大而增大,退火后薄膜光学带隙减少。薄膜的室温光致发光谱中有较强的蓝光发射峰,并对蓝光的发射机理作了分析蓝光(487nm左右)的发射与锌填隙(Zni)和锌空位(VZn)缺陷能级有关,还与Sb3+离子提供了相应的蓝光中心有关;蓝光峰(436nm左右)的发射与锌填隙缺陷能级和氧空位(VO)形成的浅施主能级有关,这些蓝光峰的出现对于开发出单色蓝光发光器件有重要意义。"

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