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ISSN: 2333-9721
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分析化学  2011 

过氧化聚吡咯修饰金电极研究全氟化合物对脱氧核糖核酸的损伤

, PP. 392-396

Keywords: 脱氧核糖核酸,聚吡咯,全氟辛烷磺酸,化学修饰电极

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Abstract:

金电极在含有1.0mol/LKCl的0.1mol/L吡咯溶液中,-0.3~0.8V循环扫描10圈制备了聚吡咯膜,在1.2V进行过氧化处理,得到聚吡咯微孔膜,并将双链小牛胸腺DNA沉积在膜的微孔内,利用差分脉冲技术以亚甲基蓝(MB)为电化学指示剂研究了新型有机污染物全氟辛烷磺酸(PFOS)对DNA的损伤。结果表明随着损伤时间的增加,MB还原峰电流减小,表明PFOS与DNA的相互作用阻碍了碱基鸟嘌呤G与MB的结合;同时电极的表面电子传递电阻从650W增大到1350W,表明PFOS对DNA的损伤降低了DNA的电子传递性能。该DNA传感器为研究污染物的毒理提供了新思路。

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