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, PP. 823-823
Keywords: 化学发光,表面活性剂,4-羟基香豆素,铜,溴化十六烷基三甲胺
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本文比较了测定过氧化氢的化学发光体系,以及金属和络合离子催化、表面活性剂增敏和碱性介质诸因素的影响,找到了4-羟基香豆素-Cu2+-CTMAB(溴化十六烷基三甲胺)化学发光新体系.本方法测定过氧化氢的检测限是3×10-10mol/L,线性范围1×10-2~3×10-5mol/L.
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