硅对镉胁迫下白菜光合作用及相关生理特性的影响

通过水培试验，采用前期以根系耐性指数为指标从12个白菜[brassicacampestrisl.ssp.chinensis（l.）makino]品种中筛选的两个对cd耐性不同的白菜品种‘上海青’（cd敏感型）和‘杭油冬’（cd耐性）为试材，研究硅（si，1.5mmol·l-1）对镉（cd，5.0mg·l-1）胁迫下白菜生长、cd含量、光合参数、叶片叶绿体超微结构的影响。结果表明：在cd胁迫下，‘上海青’和‘杭油冬’与各自对照相比，地上部和地下部生物量显著降低了33.8%，30.6%和33.0%，12.0%，地上部和地下部cd含量增加了55.2%，85.7%和73.2%，42.1%；叶片光合速率（pn）、蒸腾速率（tr）、气孔导度（gs）和叶绿素含量均下降，细胞间隙二氧化碳浓度（ci）增加；叶片的叶绿体结构明显受到损伤，叶绿体膨胀，叶绿体的基质片层结构破坏，片层方向紊乱。施硅后与单独cd处理相比，两品种地上部和地下部生物量显著增加了24.9%，41.1%和31.9%，43.5%；地上部cd含量显著降低了15.1%和26.3%，而地下部cd含量显著增加了24.7%和33.6%；叶片的光合作用能力增强，而且叶片叶绿体超微结构变得完整。说明施硅减少了cd从地下部向地上部的运输，提高了光合作用效率。这种缓解效应在耐cd型品种‘杭油冬’中表现的效果更加显著。