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, PP. 46-49
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一、引言?在离子探针(动态SIMS)质谱分析中,动态沾污离子的来源及其质谱特征是一个长期以来为人们所注意的基本课题[1].当分析是金属或半导体的样品时,在目前二次离子质谱仪器一般能达到的分辨率条件下,这些沾污干扰离子往往与成份离子重叠在一起,很难辨认.
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