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ISSN: 2333-9721
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高温胁迫对一品红光合作用与叶绿素荧光的影响

Keywords: 一品红,高温胁迫,光合作用,叶绿素荧光

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Abstract:

????以一品红威望为试验材料,研究45和50℃高温处理0~2h对一品红叶片光合作用及叶绿素荧光参数的影响。结果表明:2种高温处理0?5h时,一品红叶片的净光合速率?(P??n)均大幅下降,但[JP]此后45℃处理的?P??n缓慢回升,而\{50℃\}处理的?P??n则不断下降,最终为负值;叶绿素荧光参数的变化表明,45℃高温处理导致一品红叶片光系统Ⅱ(PSⅡ)反应中心失活,可能为部分可逆失活,而50℃高温处理导致的PSⅡ反应中心失活可能为不可逆失活。说明一品红对高温有较强的耐受性,45℃短期高温对其伤害是可逆的,但50℃以上的高温会对其造成不可逆的伤害。高温胁迫初期,一品红叶片能够以热的形式耗散过剩的光能,这可能是一品红在高温逆境下的一种自我保护机制。

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